ICP-MS|萊伯泰科精彩亮相“2023光刻膠及聚酰亞胺先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應用研討會(huì )

        2023年5 月 26 日，萊伯泰科受電子化工新材料產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟的邀請，出席江蘇常州“2023•光刻膠及聚酰亞胺先進(jìn)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)應用研討會(huì )”，大會(huì )上萊伯泰科帶來(lái)半導體領(lǐng)域解決方案，并與行業(yè)內各位專(zhuān)家進(jìn)行熱切討論。

會(huì )議圖片

光刻是半導體制造微圖形工藝的核心，光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的 35%。目前國內光刻膠產(chǎn)業(yè)仍處于發(fā)展起步階段，高端半導體光刻膠市場(chǎng)仍被日本和美國公司壟斷，國產(chǎn)替代率較低。

2021年5月20日，萊伯泰科重磅發(fā)布LabMS 3000電感耦合等離子體質(zhì)譜儀，強勢進(jìn)軍半導體行業(yè)。2023年3月10日，萊伯泰科隆重推出針對于半導體行業(yè)研發(fā)生產(chǎn)的LabMS 5000 ICP-MS/MS電感耦合等離子體質(zhì)譜，致力于為半導體行業(yè)用戶(hù)提供更加精準、高效的解決方案。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀（ICP-MS/MS)

萊伯泰科作為主要國產(chǎn)儀器廠(chǎng)商之一，在分析儀器領(lǐng)域已深耕20年，始終堅守在推動(dòng)我國科學(xué)儀器發(fā)展的前線(xiàn)。近些年萊伯泰科在質(zhì)譜創(chuàng )新之路的進(jìn)展加速著(zhù)國產(chǎn)替代的進(jìn)程，以實(shí)際行動(dòng)助力我國半導體產(chǎn)業(yè)健康穩步發(fā)展，實(shí)現高水平科技自立自強。

萊伯泰科展臺